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英特尔计划2019年使用新工艺生产PC用CPU

  Chipzilla实验室的10nm工艺的一再延迟但并不影响7nm工艺的推出,甚至可能更快。

  目前,10nm工艺制程仅用于生产少量的cpu,预计到2019年晚些时候才会大规模生产。

  但根据Anandtech的说法,尽管英特尔的10nm工艺试产举步维艰,但是7nm工艺正按照原定的计划进行生产。

  

英特尔计划2019年使用新工艺生产PC用CPU


  这意味着英特尔的10nm工艺可能只是一种过渡工艺。

  对于10nm工艺不顺利的原因,Chipzilla实验室的解释是设定了过于激进的晶体管密度目标。

  英特尔的10nm制造技术使用的是193nm波长的深紫外光刻技术(DUVL),为了实现英特尔在10nm上设定的精细特征尺寸,设计中使用了大量的多图案曝光。然而,其7nm工艺将使用13.5nm波长的的极紫外光刻(EUVL),减少了对多图案曝光的需求,简化并缩短了生产时间。

  但是7nm工艺与10nm工艺分别有独立的团队负责,目前也没有路线图可以公布,也只是画饼阶段。

  在纳斯达克第39届投资者大会上,英特尔首席工程官、技术、系统架构和客户组总裁穆尔蒂•伦杜金塔拉(Murthy Renduchintala)表示:“对我们来说,7纳米是由一个独立的团队来完成的伟大杰作。我们对7nm的进展感到非常满意。我认为我们已经从10纳米的经验中吸取了很多教训,我们对此进行了定义,并定义了晶体管密度、功率、性能和进度可预测性之间的不同优化点”。

  因此,我们专注于按照最初的内部计划来生产7纳米。

  英特尔计划在2019年开始使用其10 nm工艺生产PC用CPU,数据中心产品将在稍后推出。

  英特尔不会跳过任何已经宣布的10nm产品,但其7nm产品可能会提前到来,不用等每4年一次的生产工艺的更新。

  Renduchintala说:“还有一个要强调的是,当你看到7nm工艺的产品的时候,也就是我们将EUV重新投入生产的时候,这也表明我们重新又回到摩尔定律的节奏上来了‘’。

  英特尔已宣布7nm生产计划的晶圆厂现在只有位于亚利桑那州的Fab 42。

  此外,英特尔将在其D1工厂进行7nm工艺进行生产用于开发和试验(以及其他用途)的产品。


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